p>Компания Intel сообщила, что её завод Fab 42, который был заложен ещё в 2011 году, наконец-то вышел на запланированный уровень производства полупроводниковой продукции. На фабрике производятся новейшие продукты компании на основе 10-нм техпроцесса.

Теперь Intel может производить второе поколение 10-нм процессоров — Ice Lake, Ice Lake-SP, Elkhart Lake, Snow Ridge, а также третье поколение 10-нм чипов (SuperFin) — Tiger Lake и графические процессоры DG1, не только в Израиле и штате Орегон, но и в Аризоне, на новом заводе Fab 42. Запуск третьего завода, способного производить 10-нм продукцию в больших объёмах, позволит компании значительно повысить поставки указанных решений.

Intel обычно не раскрывает возможностей своих фабрик, однако в данном случае было сказано, что Fab 42 станет частью новой сети предприятий компании. Обычно фабрики таких масштабов способны производить от 25 до 100 тысяч кремниевых пластин в месяц. Однако конечный объём зависит от того или иного выбранного технологического процесса производства.

По данным Intel, в общей сложности она инвестировала в открытие аризонской фабрики более $23 млрд. В настоящий момент на ней работают 12 000 сотрудников. У завода довольно интересная история. Крупнейший производитель процессоров заложил его ещё в 2011 году. На тот момент перспективы производства кремниевых пластин с применением литографии со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV) были неопределёнными, поэтому компания рассчитывала использовать завод для производства больших 450-мм пластин. С этим расчётом завод и оснащался.

Строительство фабрики и её первоначальное оснащение вытяжками и системами кондиционирования завершилось в 2013 году. Однако в начале 2014 года Intel решила не оснащать завод оборудованием для производства на тот момент передовой 14-нм полупроводниковой продукции, поскольку не была уверена в уровне спроса на неё.

В начале 2017 года компания заявила о желании инвестировать $7 млрд для оснащения завода Fab 42 оборудованием для производства 7-нм чипов. Со временем Intel поняла, что ей не хватает мощностей для производства 10-нм продукции, поэтому фабрику переоборудовали под этот техпроцесс производства. В то же время компания сохранила возможность использования Fab 42 в качестве линии по производству продуктов на базе 7-нм техпроцесса, который подразумевает использование литографии в глубоком ультрафиолете (DUV) и в сверхжёстком ультрафиолетовом излучением (EUV).