Китай на марше: SMIC начнёт рисковую 12-нм печать FinFET до конца года- Новости ИТ - Сервис
 
Главная страница


комплексные ИТ-решения

ВАШИ ИДЕИ
СТАНУТ РЕАЛЬНОСТЬЮ!

  
   


Самый полный
спектр ИТ-услуг
  Решения в области
Информационных технологий
 
 
 

 

 Главная  /  Новости  /  новости IT-рынка  /  Китай на марше: SMIC начнёт рисковую 12-нм печать FinFET до конца года

Новости

Китай на марше: SMIC начнёт рисковую 12-нм печать FinFET до конца года
14.11.2019, 07:13:44 
 
p>Ранее ожидалось, что SMIC (Semiconductor Manufacturing International), крупнейший контрактный производитель полупроводниковых чипов в Китае, приступит к массовому 14-нм производству чипов FinFET до середины текущего года. Но в августе компания смогла наладить лишь рисковое производство и только совсем недавно приступила к коммерческому.

Это большой шаг вперёд для Китая, ведь речь идёт о первой производственной линии с транзисторами FinFET в стране, в которой уже построено немало полупроводниковых заводов. Впрочем, ведущие мировые производители никогда не развёртывали технологию FinFET в Китае по геополитическим причинам и соображениям охраны интеллектуальной собственности.

Но останавливаться на достигнутом китайская SMIC, похоже, не собирается и уже планирует освоение более тонких производственных норм. Как сообщает ресурс Digitimes со ссылкой на своих информаторов, ещё до конца текущего года компания собирается приступить к рисковому производству кристаллов по 12-нм технологическому процессу.

Как ранее сообщала компания, их 14-нм нормы FinFET были разработаны полностью собственными силами и позволяют значительно увеличить плотность транзисторов, нарастить производительность и снизить энергопотребление по сравнению с кристаллами, выпускавшимися с соблюдением прежних самых продвинутых норм компании — 28-нм. Так или иначе, сейчас в мире есть лишь 5 компаний, выпускающих чипы с транзисторами FinFET.

В начале 2019 года компания завершила строительство своего завода SMIC South FinFET стоимостью $10 млрд, который будет использоваться для передовых производственных норм, и начала насыщать его оборудованием. Как только завод будет готов к коммерческим операциям, SMIC сможет значительно увеличить производство чипов с соблюдением 14-нм, а затем и 12-нм норм FinFET.

Долгосрочные планы SMIC включают освоение 10-нм и 7-нм норм. Последний потребует использования фотолитографии в глубоком ультрафиолетовом диапазоне, поэтому в прошлом году SMIC приобрела сканер EUV у ASML за $120 млн. Между тем помимо SMIC в 2020 году массовое 14-нм производство с транзисторами FinFET в Китае собирается развернуть также шанхайская Huali Microelectronics (HLMC).


Источник: 3DNews

 
 
Новости:    Предыдущая Следующая   
 Архив новостей

Разделы новостей:

Подписаться на новости:

 

Поиск в новостях: