p>Ещё в прошлом году представители Micron на каждом мероприятии для инвесторов твердили, что использование EUV-литографии для производства памяти экономически нецелесообразно. По этой причине Micron отказывалась давать прогноз о сроках внедрения литографии со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением у себя на производстве. При этом компания не стеснялась признаться, что технологическая готовность к такому переходу прорабатывается, и эксперименты с EUV-сканерами проводятся.

С тех пор конъюнктура рынка памяти серьёзно изменилась. Очередной кризис перепроизводства подорвал спрос и обрушил цены, производители памяти либо свернули планы по расширению мощностей, либо начали сокращать объёмы выпуска памяти. Интересно на этом фоне прислушаться к комментариям ASML — холдинга из Нидерландов, который выпускает литографическое оборудование, используемое всеми производителями микросхем и микропроцессоров. Компания только что отчиталась о финансовых результатах второго квартала, и некоторые выявленные тенденции могут быть интересны даже тем, кто финансовой статистикой не интересуется вовсе.

Во-первых, ASML отмечает растущий интерес к оборудованию, позволяющему работать с EUV-литографией. Если в первом квартале было продано только четыре EUV-сканера, то во втором квартале было продано семь, а ещё три заказаны в производство на будущее. Компания даже сочла нужным отметить, что часть этих сканеров будет использоваться при производстве микросхем памяти. То есть экономическая ситуация и безудержный бег технического прогресса заставили производителей памяти задуматься о переходе на EUV-литографию, даже если кто-то ранее сопротивлялся этому.

Во-вторых, падение спроса на оборудование со стороны производителей памяти в первом полугодии должно быть компенсировано ростом спроса на сканеры со стороны производителей всей прочей логики, отмечает ASML. В первом полугодии около 40 % приобретаемых литографических сканеров планировалось использовать для производства памяти. Это заметно меньше в относительном выражении, чем в прошлом году. В отношении интереса к EUV-литографии со стороны производителей памяти было сказано, что переход на неё позволяет им, в конечном итоге, экономить на издержках. Плюс новое оборудование позволяет изготавливать изделия с более высоким быстродействием, хотя это больше актуально для производителей процессоров.

В-третьих, возрождение спроса на сканеры для производства микросхем памяти прослеживается при переходе от I квартала 2019 года ко II. Так, доля заказанных в производство сканеров для производства памяти выросла с 25 % до 33 %. И вообще, второй квартал продемонстрировал рост спроса на литографическое оборудование: количество заказов на новые сканеры выросло с 32 до 50 штук, количество заказов на вторичном рынке выросло с 2 до 11 сканеров.

Вообще ASML связывает этот подъём именно с интересом к EUV-литографии. В рамках 7-нм технологии она будет применяться не так активно, максимальное количество обрабатываемых с её помощью слоёв микросхем не превысит двенадцати. Зато с переходом на 5-нм техпроцесс количество EUV-слоёв превысит 20 штук, по оценкам представителей холдинга. Разработчики микропроцессорной продукции до сих пор с недоверием относились к EUV-технологии, пытаясь за раз внедрять не более пяти слоёв. Теперь возможности EUV-литографии внушают разработчикам гораздо больше уверенности, отмечает ASML.

Кроме того, спрос на литографическое оборудование в настоящее время подогревается инициативой китайских властей по увеличению производства памяти внутри КНР. Правда, местных производителей пока интересует не самое передовое оборудование, зато закупается оно в хороших количествах. Сам холдинг ASML может за квартал выпускать не более 45 литографических сканеров, но расширять производственные площади он пока не планирует. По его прогнозам, имеющихся возможностей хватит как минимум на два ближайших года.

Источник: 3DNews