p>В России к 2026 году могут создать отечественное литографическое оборудование для печати чипов на кремниевых пластинах согласно нормам 130–65 нм техпроцесса. Об этом пишет «Коммерсантъ» со ссылкой на данные тендера Минпромторга стоимостью 5,7 млрд, в рамках которого предполагается проведение разработки отечественной фотолитографической установки с минимальной топологией 130 нм.

Источник: 3DNews